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超精密XYエアステージを開発
- 新ナノレベルの位置決め精度を実現 -

新製品2004年11月26日

 株式会社安川電機(取締役社長 利島 康司)は、半導体装置向けにナノ(10億分の1)メートルレベルの超精密位置決めと、滑らかで正確な移動を可能とする超精密XYエアステージを開発し、2005年3月21日から販売を開始します。

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「超精密XYエアステージ」

1.製品化のねらい

 半導体業界では、デザインルール(半導体チップ上の配線間の距離)の微細化により、製造装置内に搭載される位置決め装置への高精度化が求められています。この高精度化は停止位置精度だけでなく、移動中の安定した速度・軌跡精度確保においても求められています。

 当社の超精密XYエアステージは、メカ系にエアベアリングを採用し、非接触のステージ機構とすることでクリーン対応力の大幅な向上やメンテナンスフリーを実現しています。またエアベアリング内のエア層を均一に保つよう工夫したことや、駆動系に当社の得意とするリニアモータ技術を駆使した結果、滑らかな走りと安定した直進性を実現、さらに位置検出器をステージ側に配置したことにより、駆動系からステージまでのメカ的な誤差を排除し、高い位置再現性を可能にしています。
 安定した走行性能を求められる光学系の検査装置や、高い位置決め精度を求められる露光装置等に適したステージとなっています。

2.主な特長(設置環境・構成により性能は変化します。)

 (1) クリーン環境対応
 エアベアリングとリニアモータの採用により、駆動系を含めたメカ系の非接触構造を実現しました。これにより摩擦による発塵や摩擦熱・磨耗による変形を防止でき、長期間、クリーンで高精度のステージを提供できます。さらに注油・グリスアップが不要で油の飛散も無くなり、メンテナンスフリーとなりました。
 (2) 微細化するデザインルールに対応した高分解能
 ナノレベルの位置決め精度を実現する高性能リニアスケール(位置検出器)を採用することでレーザ干渉計(位置検出器)に比べ環境に左右されにくい位置制御を実現します。また、ステージ位置を直接検出するので駆動系からステージまでのメカ的な誤差を排除でき、高い位置再現性と繰り返し位置決め精度±10nmを実現しました。
 (3) 移動中の作業にも対応する滑らかで正確な動作
 光学系の検査装置等で求められる移動中の精度にも対応できるように、動作中の推力変動が小さいコアレス構造のリニアモータを採用し、速度安定性±0.05%(50mm/s)を実現しました。
 またエアベアリング部には、エア噴出口のみでなくエア吸い込み口を設け、エアの層を均一に保ち、滑らかな走りと安定した直進性(1μ/300mmストローク:理想直線に対する水平・垂直方向の位置誤差量)を実現しています。

3.主な用途

 半導体製造装置などの精密加工装置分野での検査、研磨、組み立て工程におけるワーク位置決め、移動動作。

4.販売計画

 (1) 販売開始 2005年3月21日
 (2) 販売計画 20台/年
 (3)

販売価格 3800万円~(仕様により価格は変動します)
       ・ステージ本体
       ・リニアモータドライバ
       ・エアー供給キット
       ・ケーブル

 なお、本製品は、12月1日(水)から3日(金)まで幕張メッセで開催される「セミコンジャパン2004」において、当社出展ブース内で展示実演予定です。

 

[お問い合わせ先]
株式会社 安川電機
ロボティクスオートメーション事業部
事業企画部 課長補佐 安高(アタカ) 博之
Tel.(093)645-7703
Fax.(093)631-8140

 

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